هواوی سال گذشته موفق شد با ارائه تراشههای Kirin 9000 5G، اولین تراشههای 5 نانومتری جهان را به میدان بفرستد. این تراشه که توانست با قدرت بخشیدن به پرچمداران سری میت 40، شرکت چینی را به موفقیتهای تجاری خوبی برساند، برای هواوی به منبع الهامی در جهت ساخت تراشههای بهتر تبدیل شده است.
این شرکت در همین راستا، از قصد خود برای ارائه نسل بعدی تراشههای Kirin با لیتوگرافی 3 نانومتری خبر داده و ابراز امیدواری کرده است که تولید آنها تا پایان سال جاری میلادی آغاز شود. در ادامه به معرفی تراشههای 3 نانومتری هواوی میپردازیم.
تولید تراشهها با لیتوگرافی کوچکتر، از این جهت دارای اهمیت است که به سازندگان اجازه میدهد با جای دادن ترانزیستورهای بیشتر داخل تراشه، قدرت پردازشی دستگاههای خود را افزایش دهند. علاوه بر این، کوچکتر شدن اتصالات بین ترانزیستورهای داخلی، از مصرف بیش از حد توان باتری و داغ شدن دستگاه جلوگیری میکند و در نتیجه موجب افزایش دوام قطعات داخلی دستگاه میشود.
طراحی تراشههای Kirin به وسیله یکی از شرکتهای زیرمجموعه هواوی به نام HiSilicon صورت میگیرد. این شرکت توانست با طراحی تراشههای قدرتمند 5 نانومتری، تحسین بسیاری از کارشناسان را برانگیزد و در بخشهای مختلفی مانند محاسبات هوش مصنوعی و پردازشگر عصبی (NPU)، برای دستگاههای هواوی مزیتهای رقابتی برتر ایجاد کند.
همین موضوع باعث شده است تا بسیاری از متخصصان و علاقه مندان به فناوری، منتظر نسل بعدی تراشههای پردازشی هواوی باشند. به همین دلیل، این شرکت اعلام کرده است که چندی پیش نام تجاری جدیدی را برای برند Kirin به ثبت رسانده و قصد دارد همین امسال نسبت به تولید تراشههای 3 نانومتری خود اقدام کند.
خلاصه مشخصات تراشه پرچمدار فعلی هواوی Kirin 9000
ضمن توجه به این توضیحات، باید به این نکته نیز اشاره کنیم که طبق گفتههای منابع نزدیک به هواوی، تراشههای 3 نانومتری جدید این شرکت Kirin 9010 نام خواهند گرفت و در آیندهای نزدیک در گوشیها و تبلتهای پرچمدار هواوی به کار گرفته خواهند شد. HiSilicon با ساخت این تراشه، رکورد 15.3 میلیارد ترانزیستور موجود Kirin 9000 را بهبود بخشیده است تا بتواند از واحدهای هوش مصنوعی قدرتمندتری استفاده کند.